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Areas of application 適用領(lǐng)域

? 適用高溫等離子處理半導(dǎo)體制成氣體

? GWG (CF4, SF6, NF3 等)

? 腐蝕性氣體 (Cl2, F2, BCl3, HBr 等)

? 可燃性氣體 (SiH4, TEOS, DCS, H2 等)

characteristic 特點(diǎn)

? 使用場(chǎng)景：半導(dǎo)體廠中ETCH端、廠務(wù)端特氣房，處理含CF4氣體為主

? 處理能力：常態(tài)為600-1000slm

? 適用溫度：1400度以上

? 缽米產(chǎn)品特點(diǎn)：掌握核心陰陽離子頭來源，實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代

Benefits 優(yōu)勢(shì)

? 預(yù)防性維護(hù)：易于維護(hù) （反應(yīng)器和濕室清潔：冷卻后30分鐘內(nèi)）

? 設(shè)備使用率：自動(dòng)旁路備用系統(tǒng)可最大程度的減少主要工具的停機(jī)時(shí)間

? 其它：快速的冷卻效果，所有零件可以承受高壓力(閥件、管路等）