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Areas of application 適用領域

? 用吸附劑和吸附介質(zhì)處理半導體及面板制成氣體

?注入氣體(AsH3, PH3, BF3 等)

?腐蝕性氣體(F2, Cl2, BCl3, HBr 等)

characteristic 特點

?使用場景：半導體廠中離子注入端、干刻蝕端廠務端特氣房、應急吸附塔體

?處理能力：1sccm~100000CMH(常態(tài)為100-500sIm) 

?缽米產(chǎn)品優(yōu)勢：核心吸附材料為自制、技術以及成本控管能力強

Benefits 優(yōu)勢

? 效率極高，目標氣體被處理后可達到零檢出。

? 沒有不可控的附產(chǎn)污染物產(chǎn)生，不產(chǎn)生二次污染，更徹底

? 動力消耗極低，更節(jié)約能源

? 被動吸收,不浪費

? 設備簡單，維護簡便，維護成本低，運行更穩(wěn)定.